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  • XMD氧化鈷濕法分散研磨機

    氧化鈷濕法分散研磨機需要加入液體介質(zhì)中分散應用，氧化鈷+液體介質(zhì)+分散劑采用XMD2000系列研磨分散機進(jìn)行研磨分散，解決團聚問(wèn)題，更均勻的分散，并進(jìn)一步細化粒徑，一般分散后粒徑為D90小于1微米，分散效果好，效率高。

    更新時(shí)間

    2023-11-12

    廠(chǎng)商性質(zhì)

    生產(chǎn)廠(chǎng)家

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